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智能勻膠機系統具有自動編程功能

更新時間:2023-12-24  |  點擊率:198
  智能勻膠機是一種先進的半導體制程設備,主要用于在晶圓表面均勻涂覆光刻膠。隨著微電子技術的不斷發展,對半導體制程的要求越來越高,因此在半導體制造過程中扮演著舉足輕重的角色。
  

 

  智能勻膠機的工作原理主要包括以下幾個方面:
  
  1.真空吸附:采用真空吸附技術,將晶圓固定在工作臺上,確保晶圓在涂覆過程中不會發生位移。
  
  2.旋轉涂覆:通過高速旋轉的涂覆頭,將光刻膠均勻地涂覆在晶圓表面。涂覆頭的轉速可以根據工藝要求進行調整,以滿足不同厚度的光刻膠涂覆需求。
  
  3.控制精度:采用先進的控制系統,實現對涂覆過程的精確控制。通過對涂覆頭的位置、速度等參數的實時監控和調整,確保光刻膠的均勻性和一致性。
  
  4.自動清洗:具有自動清洗功能,可以在涂覆完成后自動清洗涂覆頭,保證設備的清潔度和使用壽命。
  
  特點:
  
  1.高精度:采用先進的控制系統和精密的運動平臺,實現對涂覆過程的精確控制,確保光刻膠的均勻性和一致性。
  
  2.高效率:采用高速旋轉的涂覆頭和優化的工藝參數,大大提高了光刻膠的涂覆速度,滿足了大規模生產的需求。
  
  3.操作簡便:采用人機界面友好的操作面板,操作簡便。同時,系統具有自動編程功能,可根據圖紙自動生成加工程序,簡化了操作過程。
  
  4.穩定性高:采用高剛性結構設計和先進的運動控制技術,確保設備在高速運行過程中的穩定性和可靠性。
  
  智能勻膠機的應用領域:
  
  1.光刻:在晶圓表面涂覆光刻膠,作為掩膜板與光刻機的光源相互作用,形成所需的圖案。
  
  2.薄膜沉積:在晶圓表面涂覆各種薄膜材料,如金屬、氧化物等,用于制作導電、絕緣等功能層。
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